Tungsten Rhenium (W-Re) Alaşım Sputtering Hedefi

Ürün Açıklaması

Tungsten Rhenium (W-Re) Alaşım Sputtering Hedefleri Özellikleri ve Uygulamaları

Tungsten, yaygın bir hedef malzemedir. Tungsten-rhenium alaşımı oluşturmak için reniyum'u tungsten'e eklemek, volframın plastikliğini ve işleme özelliklerini artırabilir.Tungsten-renyum alaşımı bir dizi mükemmel özelliğe sahiptir, Yüksek erime noktası, yüksek sertlik, yüksek dayanıklılık, yüksek plastiklik, yüksek iletkenlik, korozyon direnci, aşınma direnci, yüksek yeniden kristalleşme sıcaklığı, düşük buhar basıncı,Düşük elektron çalışma fonksiyonu ve düşük plastik kırılganlık geçiş sıcaklığı.
Tungsten Rhenium (W-Re) Alaşım Sputtering Hedefleri genellikle çeşitli tıbbi X-ışını tüpleri için anod malzemeleri olarak kullanılır.Yüksek erime noktasını ve termal istikrarını kullanarak yüksek voltajlı elektronlarla çarpışarak röntgen ışınları üretirler.Bu röntgenler, tıbbi teşhis veya nesnelerin iç yapısını tespit etmek için görüntü oluşturmak için insan vücuduna veya malzemelere nüfuz etmek için kullanılır.ve görüntüleme teknolojisinin verimliliğini ve netliğini artırmakTungsten Rhenium (W-Re) Alloy Sputtering Hedefleri ayrıca entegre devrelerin ve mikroelektronik cihazların üretiminde yaygın olarak kullanılabilir.Elektronik ekipmanların çalışmasının istikrarını sağlamak için iletken katmanlar veya bariyer katmanlar yatırmak için kullanılabilir..

Tungsten Rhenium (W-Re) Alaşım Sputtering Hedefleri Özellikleri:

Tungsten Rhenium (W-Re) Alaşım Sputtering Hedefleri Resimler