4N Nikel Ni Hedefi

Ürün Açıklaması

Genel Bakış

4N Nikel Ni Hedefi, yüksek saflıkta nikel bazlı bir püskürtme hedef malzemesidir. Temel avantajları, düzgün metal yapısı, mükemmel termal ve elektriksel iletkenliği ve kimyasal kararlılığında yatmaktadır. Yarı iletken ve manyetik kayıt endüstrilerinde ve ayrıca ince film performansı için sıkı gereksinimleri olan alanlara istikrarlı destek sağlayan üst düzey fonksiyonel kaplama uygulamalarında kullanılabilir.

Nikel Özellikleri

• Nikel yüksek bir termal iletkenliğe sahiptir ve püskürtme sırasında önemli miktarda ısı üretilirken, mükemmel termal iletkenliği hedefte lokalize aşırı ısınmayı ve çatlamayı önler.
• Yüksek ve kararlı elektriksel iletkenlik, verimli püskürtme güç iletimini sağlar ve enerji kaybını azaltır.
• Yüksek saflıkta nikel, düzgün bir metalik yapıya sahiptir, bu da püskürtme sırasında kararlı parçacık salınımını sağlayarak biriktirilen filmlerin kalitesini ve hassasiyetini sağlar.
• Nikel, vakum ortamında kolayca oksitlenmez veya diğer gazlarla reaksiyona girmez, bu da püskürtme sırasında safsızlıkların girişini azaltır ve film saflığını sağlar.
• Nikel, mükemmel sünekliğe ve plastisiteye sahiptir, bu da dövme, haddeleme ve kesme yoluyla çeşitli boyut ve kalınlıklarda hedeflere işlenmesini sağlayarak çeşitli püskürtme ekipmanlarının hazne yapılarına uyum sağlar.

4N Nikel Ni Hedef Boyutu

Uygulama

1. Yarı İletken Endüstrisi

• Yarı iletkenler, 4N Nikel Ni Hedefinin temel uygulamalarından biridir ve öncelikle çip devrelerinin hassasiyetini ve güvenilirliğini sağlamak için yüksek saflıklarından ve püskürtme kararlılıklarından yararlanır. Entegre devrelerde ve güç yarı iletkenlerinde, nikel hedefleri, çip içindeki akım iletimini sağlayan metal elektrot katmanlarını biriktirmek için kullanılır. Yüksek saflık, safsızlıkların devre performansını etkilemesini önler.
• Nikel ince filmler, bakır atomlarının çipin yalıtım katmanına yayılmasını engelleyerek devre kısa devrelerini ve performans düşüşünü önleyen bir bariyer görevi görür.

2. Manyetik Kayıt Endüstrisi

• Nikel belirli manyetik özelliklere sahiptir ve püskürtmeden sonraki kararlı manyetik geçirgenliği, manyetik kayıt endüstrisinde depolama cihazlarının kapasitesini ve okuma/yazma hızını doğrudan etkileyen önemli bir hedef malzeme olmasını sağlar. Nikel hedefleri, sabit disk kafalarında, manyetik depolama filmlerinde ve ayrıca manyetik bantlarda ve manyetik kartlarda manyetik fonksiyonel katmanları biriktirmek için kullanılır, depolama yoğunluğunu ve veri okuma/yazma doğruluğunu artırır.
• Manyetik sensörlerde (otomotiv ABS sensörleri ve endüstriyel konum sensörleri gibi), nikel bazlı ince filmler manyetik algılama katmanları olarak hizmet ederek sensör hassasiyetini ve kararlılığını artırır.

3. Dekoratif ve Fonksiyonel Kaplamalar

• Hedef püskürtme, paslanmaz çelik sofra takımları, lambalar, donanım aksesuarları ve otomotiv iç mekanlarının yüzeylerinde parlak bir dekoratif katman oluştururken, aynı zamanda yüzey aşınma direncini artırır ve günlük kullanımdan kaynaklanan çizilmeleri ve oksidasyonu önler.
• Cam ve metal yüzeylere nikel bazlı ince filmlerin biriktirilmesi, korozyon direncini ve UV yaşlanma direncini artırarak ürün ömrünü uzatır.

4. Yeni Enerji ve Diğer Alanlar

• Nikel ince filmler, lityum iyon ve katı hal pillerinin akım toplayıcılarında iletkenlik artırıcı katmanlar veya korozyona dayanıklı kaplamalar olarak kullanılabilir, pil şarj ve deşarj verimliliğini ve döngü ömrünü iyileştirir.
• Bazı fotovoltaik modüllerin elektrot kaplamalarında ve ayrıca kızılötesi yansıtıcı filmler ve gizlilik filmleri gibi optik ince filmlerde, nikel hedefleri, optoelektronik cihazların performansını optimize etmek için yardımcı fonksiyonel katmanlar olarak hizmet edebilir.

Proses

① Safsızlıkları başlangıçta gidermek için kimyasal arıtma kullanılır, ardından nikel saflığının 4N sınıfına ulaşmasını sağlamak için vakumlu elektron ışını eritme yoluyla ultra arıtma yapılır.

② Eritilmiş nikel külçesi vakum ortamında dökülür ve iç gözenekliliği ortadan kaldırmak ve hedef yoğunluğunu sağlamak için sıcak izostatik presleme kullanılır.

③ Nikel külçesi, istenen kalınlığı ve tane yapısını elde etmek için çoklu haddeleme veya dövme geçişlerinden geçer, araya iş sertleşmesini ortadan kaldırmak için vakum tavlaması yapılır.

④ Hedef boşluğu, ±0.5 mm içinde kontrol edilen boyut toleransları ile ultra hassas tel kesme veya lazer kesme kullanılarak kesilir.

⑤ Yüzey pürüzlülüğünü azaltmak ve yüksek homojen püskürtme gereksinimlerini karşılamak için kimyasal mekanik parlatma kullanılır.

⑥ Saflık analizi, performans testi ve tahribatsız test dahil olmak üzere titiz kalite kontrolleri yapılır.

Diğer Alaşım Hedef

4N Nikel Ni Hedef  Resimleri