Ti Püskürtme Hedefleri Dönebilir, Döner, Silindirik, Düzlemsel, Katodik Ark, PVD Kaplama

Ti Püskürtme Hedefleri Dönebilir, Döner, Silindirik, Düzlemsel, Katodik Ark, PVD Kaplama

Ti Püskürtme Hedefleri Bilgileri:

1.660°C'lik bir erime noktasına, 4.5 g/cc'lik bir yoğunluğa ve 1.453°C'de 10-4 Torr'luk bir buhar basıncına sahiptir.Isı uygulandığında kolayca imal edilebilen sağlam bir malzemedir.Güçlü, hafif özellikleri ve mükemmel korozyon direnci, onu okyanus gemisi gövdeleri, uçak motorları ve tasarım mücevherleri için ideal kılar.Titanyum biyouyumlu olduğundan cerrahi aletlerde ve implantlarda bulunabilir.Titanyum genellikle aşınma ve dekoratif, yarı iletken ve optik kaplamalar amacıyla vakumda buharlaştırılır.

Özelleştirilmiş Ti Püskürtme Hedefleri istek üzerine mevcuttur.Müşterinin özel gereksinimlerini ve çizimlerini karşılamak için Ti püskürtme hedeflerini özel olarak yapabiliriz.

Titanyum Püskürtme Hedefleri ( Ti hedefi )

· Malzeme: Yüksek saflık (%99,5, %99,995), ASTM derece 1, ASTM derece 2, TiAl6V4

· Standart: ASTM B 337/B338, ASTM B385-91,ASTM381, ISO 5832/2,JIS H4650,Din 17851

· Şekil: Diskler (Çap <350mm), Kalınlık>1mm Dikdörtgen (Uzunluk 1800mm, Genişlik 400mm Kalınlık>1mm Tüp ( Döner hedef, OD: 20mm~160mm, Kalınlık: 2-20mm, Uzunluk: ısmarlama OD>160, Kalınlık) >8 mm, uzunluk <200)

· Uygulama: Süsleme ince film olarak kaplanmış film nitrür, Işın ayırıcı veya yalıtkan olarak TiO2'ye oksitlenmiş çökelmiş film

Ti Püskürtme Hedefleri resmi: