Bir teklif isteği
Turkish
Ana sayfa ÜrünlerPüskürtme HedefleriAlüminyum Silikon Alsi Püskürtme Hedefleri 90:10 / 80:20% Buharlaşma Malzemesinde
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material

Alüminyum Silikon Alsi Püskürtme Hedefleri 90:10 / 80:20% Buharlaşma Malzemesinde

Ürün ayrıntıları:
Menşe yeri: Çin
Marka adı: JINXING
Sertifika: ISO 9001
Model numarası: Alüminyum Silikon Püskürtme Hedefi
Ödeme & teslimat koşulları:
Min sipariş miktarı: 1kg
Fiyat: 20～150USD/kg
Ambalaj bilgileri: KONTRPLAKLAR HARF
Teslim süresi: 10 ～ 25 iş günü
Ödeme koşulları: L / C, D / A, D / P, T / T, Western Union
Yetenek temini: 100000kgs / E
Şimdi başvurun

Detay Bilgi
İşlem: CIP, HIP Presleme Tane büyüklüğü: İnce Tane Boyutu, İyi yoğunluk
Boyut: özelleştirilmiş Başvuru: PVD Kaplama sistemi
Malzeme: Alüminyum Silikon alaşımı (AlSi) Şekil: Yuvarlak , Plaka, Tüp
Vurgulamak:

Alüminyum Silikon Alsi Püskürtme Hedefleri

,

Alsi Püskürtme Hedefleri 90:10

,

80:20 Alsi Püskürtme Hedefleri

Ürün Açıklaması

Alüminyum Silikon Püskürtme Hedefi (AlSi) alaşımı 90:10/ 80:20 at%

Son yıllarda püskürtmeli kaplama teknolojisinin gelişmesinden sonra, çeşitli malzemeler için kaplama teknolojisi çok mükemmel olmuştur.Jinxing şirketi, kolejlere ve üniversitelere, bilimsel araştırma kurumlarına, endüstriyel ve madencilik işletmelerine çok çeşitli püskürtme kaplama hedefleri (metal hedefler, alaşım ve ara alaşım hedefleri, seramik hedefler dahil) sağlar.

 

Püskürtme kaplamanın uygulama alanı: Püskürtme kaplama, ambalaj kaplama, dekorasyon kaplama, mimari cam kaplama, otomobil camı kaplama, düşük radyasyonlu cam kaplama, düz panel ekran, optik iletişim / optik endüstrisi, optik veri depolama endüstrisi, optik veri depolama endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır. , manyetik veri depolama endüstrisi, optik kaplama, yarı iletken alan, otomasyon, güneş enerjisi, tıbbi tedavi, kendi kendini yağlayan film, kapasitör Cihaz kaplaması, diğer fonksiyonel kaplama vb. (ayrıntılı tanıtıma girmek için tıklayın)


Püskürtme hedef arka panel temini, yapıştırma hizmeti: merkez, oksijensiz bakır, molibden, alüminyum, paslanmaz çelik ve diğer malzemeler dahil olmak üzere çeşitli püskürtme hedef arka düzlemi sağlar.Aynı zamanda hedef ile arka plaka arasındaki kaynak hizmetini de sağlar.

 

AlüminyumSilikon Püskürtme Hedefi,Alüminyum SilikonAlaşım Püskürtme Hedefi çeşitli boyutlarda mevcuttur

D100x40mm D65x35mm vb.

 

Magnetron püskürtme hedef malzeme şekillendirme yöntemi: malzeme şekillendirme yöntemi, ürün performansına ve müşterilerin farklı gereksinimlerine göre seçilir.Genel olarak, malzemelerin erime noktası düşük olduğunda, gözenekliliği ortadan kaldırmak için vakumlu eritme, döküm, dövme ve haddeleme kullanmak gerekir.Tabii ki, tek tip tanecik malzemesini rafine etmek için etkili ısıl işlem gereklidir.Erime noktası yüksek (veya kırılganlığı yüksek malzemeler) malzemeler, sıcak presleme veya sıcak izostatik presleme ile oluşturulur ve bazıları soğuk izostatik presleme ile oluşturulur ve ardından sinterlenir.Firmamız tarafından sağlanan her türlü püskürtme hedef malzemeleri uygun teknolojiye, yüksek yoğunluğa, üniform tane ve uzun servis ömrüne sahiptir...

 

Uygulamalar:optik, elektronik, optoelektronik, dekorasyon, güneş enerjisi... Jinxing şirketi tarafından sağlanan kaplama malzemesi yüksek saflık, iyi yoğunluk ve parlama noktası olmaması gibi avantajlara sahiptir.

 

İsim Tip Yoğunluk (g/cm3) Erime Noktası:
AlSipüskürtme hedefi 90:10 yaklaşık2.7  660

AlSi Püskürtme hedefi

 80:20 yaklaşık2.7 660

 

 

 

Başlıca ürünler şunlardır:

 

Yüksek saflıkta alüminyum Al, yüksek saflıkta bakır Cu, yüksek saflıkta titanyum Ti, yüksek saflıkta silikon Si, yüksek saflıkta altın Au, yüksek saflıkta gümüş AG, yüksek saflıkta indiyum, yüksek saflıkta magnezyum mg, yüksek saflıkta çinko Zn, yüksek saflıkta platin Pt, yüksek saflıkta germanyum Ge, yüksek saflıkta nikel Ni, Yüksek saflıkta tantal TA, altın germanyum alaşımı Auge, altın nikel alaşımı auni, nikel krom alaşımı NiCr, titanyum alüminyum alaşımı TiAl, bakır indiyum galyum alaşımı cuinga, bakır indiyum galyum selenyum alaşımı CuInGaSe, çinko alüminyum alaşımlı ZnAl, alüminyum silikon alaşımlı AlSi ve diğer metal kaplama malzemeleri.

 

 

Alüminyum Silikon Alsi Püskürtme Hedefleri 90:10 / 80:20% Buharlaşma Malzemesinde 0

Etiket:

tungsten püskürtme hedefleri

metal püskürtme hedefleri

titanyum püskürtme hedefi

Bizimle temasa geçin

Mesajınız Girin

Bunların İçinde Olabilirsiniz