Dia 300mm Alüminyum Titanyum Alaşımlı Hedef Yüksek Döküm Verimi

Ürün Açıklaması

Alüminyum Titanyum Alaşımlı Hedef

Alüminyum Titanyum Alaşımlı Hedef, yüksek kalıp döküm verimi, yüksek yoğunluklu, yüksek mukavemetli ve iyi esnekliğe sahip metal bir malzemedir.Alüminyum-titanyum alaşımı ile titanyum-alüminyum alaşımı arasındaki fark, bu iki elementin oranında yatmaktadır.Alüminyum-titanyum alaşımı genellikle ağırlıkça %0,50 ila %1,20 magnezyum, ağırlıkça %1,80 ila %2,30 manganez, ağırlıkça %0,05 ila %0,15 titanyum ve toplam ağırlığın %1,0'inden daha azını oluşturan safsızlıklarda demir ve bakır içerir. demir, bakır ve çinkodan, Gerisi alüminyumdur.Alüminyum-titanyum püskürtme hedefi, alüminyum-titanyum alaşımından yapılabilir.Alüminyum-titanyum püskürtme hedefi, yüksek ilerleme hızına, mükemmel kesme performansına ve etkileyici talaş kaldırma oranına sahiptir.Alüminyum-titanyum kaplama, aletlerinizi aşınma ve yıpranmaya karşı koruyarak hizmet ömrünü uzatabilir.Alüminyum-titanyum püskürtme hedefleri, elektronik cihazlarda (cep telefonları, gözlük çerçeveleri veya lüks saatlerin kadranları gibi) dekoratif kaplamalar için de kullanılabilir.

Alüminyum-titanyum alaşımlı hedef malzeme uygun maliyetlidir
Alüminyum-titanyum hedef, alüminyum hedefin ve titanyum hedefin avantajlarını birleştirir.Hepimizin bildiği gibi titanyum ve titanyum alaşımları çeşitli endüstrilerde mükemmel özelliklere sahiptir, ancak sorun fiyatlarının çok yüksek olmasıdır.Alüminyum-titanyum alaşımlarında titanyum içeriği sadece %0,05 ila %0,15 arasındadır, bu nedenle fiyatı saf titanyum ve titanyum alaşımlarından daha ucuzdur.

Alüminyum Titanyum Alaşımlı Hedef Resmi:

Alüminyum Titanyum Alaşımlı Hedef, farklı özelliklere sahip titanyum alüminyum alaşımlı hedefler elde etmek için titanyum ve alüminyum içeriğinin ayarlanabildiği, vakumlu kaplama için alaşım püskürtme hedef malzemesidir.
Titanyum-alüminyum intermetalik bileşik, iyi aşınma direncine sahip sert ve kırılgan bir malzemedir.Sıradan aletlerin yüzeyinde, aletin kullanım süresini etkili bir şekilde uzatabilen bir titanyum-alüminyum intermetalik bileşik tabakası kaplanır.Örneğin, püskürtme, nitrojen deşarj arkı başlatılarak gerçekleştirilir.Çeşitli aletlerin, kalıpların ve diğer hassas parçaların yüzey kaplaması için özellikle uygun olan, yüksek sertlik ve düşük sürtünme katsayısına sahip bir yüzey filmi elde edilebilir, bu nedenle işleme endüstrisinde iyi bir uygulama olasılığı vardır.Titanyum alüminyum alaşımlı hedeflerin hazırlanması zordur.Titanyum-alüminyum alaşımı faz diyagramına göre, titanyum ve alüminyum, özellikle alaşımın alüminyum içeriği %50'yi (atomik oran) aştığında, titanyum-alüminyum alaşımının kırılganlığının işlenmesiyle sonuçlanan çeşitli intermetalik bileşikler oluşturabilir, oksidasyon direnci alaşım aniden azalır, Oksidasyon ciddidir.Aynı zamanda, alaşımlama işlemi sırasında ekzotermik genleşme, kabarcıklar, büzülme delikleri ve büzülme üretmek çok kolaydır, bu da alaşımın hedef yoğunluğun gereksinimlerini karşılayamayan yüksek gözenekliliği ile sonuçlanır.

1. Püskürtme hedefi Püskürtme hedefi, uygun proses koşulları altında magnetron püskürtme, çok arklı iyon kaplama veya diğer kaplama ekipmanı türleri ile çeşitli fonksiyonel ince filmler oluşturmak için bir alt tabaka üzerine püskürtülen ve biriktirilen bir püskürtme kaynağına karşılık gelir.Atış hedefleri dekorasyon, alet, cam, elektronik cihazlar, yarı iletkenler, manyetik kayıt, düz ekran, güneş pilleri vb. birçok alanda yaygın olarak kullanılmaktadır. Farklı alanlarda ihtiyaç duyulan hedef malzemeleri farklıdır.Üretim yöntemine göre, püskürtme hedef malzemeleri Toz hedefi, eritme hedefi ve püskürtme hedefi olarak ayrılabilir;şekle göre, düz hedef ve boru şeklindeki hedefe ayrılabilir.Düz hedef, dikdörtgen hedef ve yay hedefi olarak ayrılabilir;Bileşime göre saf metal hedef, alaşım hedef olarak ayrılabilir, birçok çeşit oksit hedefi, silisit hedefi vb.

2. Püskürtmeli kaplamanın prensibi, katı yüzeyi hızlandırılmış iyonlarla bombardıman etmektir ve iyonlar ve katı yüzey atomları, katı yüzeydeki atomların katıyı terk etmesi ve alt tabakanın yüzeyinde birikmesi için momentum alışverişinde bulunmaktır.Bu işlem püskürtme kaplamadır.Şekil 1, püskürtmeli kaplama işlemini göstermektedir.Şematik diyagram.Bir hedefle püskürtme yoluyla biriktirilen film, yüksek yoğunluğa ve alt tabakaya iyi yapışma özelliğine sahiptir.Bu nedenle, püskürtme biriktirme yaygın olarak kullanılan bir film hazırlama teknolojisi haline gelmiştir.Titanyum alüminyum alaşımlı püskürtme hedef hazırlama teknolojisi Püskürtme alaşımlı hedef Malzemenin saflık, yoğunluk, tane boyutu, yüzey kalitesi ve diğer gereksinimleri karşılaması gerekir.Bunlar arasında saflık, yoğunluk ve tane boyutu hedefin hazırlanma süreci ile doğrudan ilişkilidir.Metal alaşımlarının hazırlanmasında genellikle sıradan eritme yöntemi kullanılır.Ancak titanyum ve alüminyum alaşımlarının hazırlanması Bu yöntem aşağıdaki nedenlerden dolayı uygun değildir:
(1) Titanyum alüminyum alaşımının eritme işlemi, Ti3A1, TiAl, TiAl2, TiAl3, vb. Gibi çeşitli intermetalik bileşikler oluşturmak kolaydır. Bu intermetalik bileşiklerin varlığı, özellikle alaşımdaki alüminyum içeriği %50'yi (Atomik oran) aşıyorsa, sorun özellikle belirgindir;
(2) Eritme işlemi titanyum-alüminyum alaşımı hedefleri hazırlamak için kullanılır ve döküm işlemi sırasında kabarcıklar, gözeneklilik ve ayrışma oluşmaya meyillidir, bu da alaşımda düzensiz bileşim ve yapıya neden olarak kararsız hedef kalite ile sonuçlanır.
Bu kaynak metin hakkında daha fazla bilgi Ek çeviri bilgileri için gerekli kaynak metin