Pvd Kaplama Sistemi için Yüksek Saflıkta% 99.5 Titanyum Püskürtme Hedefi

Titanyum Püskürtme Hedefi %99,5, %99,95 D100x40mm, D65x6.35mm

Saflık, hedef malzemenin saflığının filmin performansı üzerinde büyük bir etkisi olduğundan, hedef malzemenin ana performans endeksidir.

Hedef malzemenin ana performans gereksinimleri:

Saflık, hedef malzemenin saflığının filmin performansı üzerinde büyük bir etkisi olduğundan, hedef malzemenin ana performans endeksidir.Ancak pratik uygulamada hedefin saflık gereksinimleri aynı değildir.Örneğin, mikroelektronik endüstrisinin hızlı gelişimi ile, silikon çipin boyutu 6", 8" den 12" ye geliştirilmiştir, kablo genişliği ise 0,5um'dan 0,25um, 0,18um ve hatta 0,13um'a düşürülmüştür. Önceden, hedef saflığın %99,995'i 0,35um IC'nin işlem gereksinimlerini karşılayabilirken, 0,18um hattının hazırlanması hedef saflığın %99,999'unu hatta %99,9999'unu gerektirir.

Hedef katıdaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı ana kirlilik kaynaklarıdır.Farklı hedef materyallerin farklı safsızlık içeriği için farklı gereksinimleri vardır.Örneğin, yarı iletken endüstrisi için saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedefler, alkali metal içeriği ve radyoaktif element içeriği için farklı gereksinimlere sahiptir.

Hedef katıdaki gözenekliliği azaltmak ve püskürtmeli filmlerin özelliklerini iyileştirmek için hedefin genellikle yüksek bir yoğunluğa sahip olması gerekir.Hedefin yoğunluğu sadece püskürtme hızını etkilemekle kalmaz, aynı zamanda filmin elektriksel ve optik özelliklerini de etkiler.Hedef yoğunluğu ne kadar yüksek olursa, film performansı o kadar iyi olur.Ek olarak, hedefin yoğunluğunun ve gücünün arttırılması, hedefin püskürtme işlemindeki termal strese daha iyi dayanmasını sağlayabilir.Yoğunluk aynı zamanda hedefin temel performans endeksidir.

Genel olarak, hedef malzeme polikristal yapıdır ve tane boyutu mikrometreden milimetreye kadar olabilir.Aynı tür hedef için, küçük tane boyutuna sahip hedefin püskürtme hızı, büyük tane boyutuna sahip hedefe göre daha hızlı iken, küçük tane boyutu farkına sahip hedef tarafından biriktirilen filmin kalınlık dağılımı (üniform dağılım) daha üniforma.