Alüminyum Levha Püskürtme Hedefi (Al) Yüksek saflık %99,999
Sıcak haddeleme ile iyi yüzey ve şekle sahip büyük ölçekli yüksek saflıkta alüminyum plakalar hazırlamak için hammadde olarak yüksek saflıkta alüminyum külçeler (%99,995) kullanıldı.Farklı sıcaklıklarda tavlanmış yüksek saflıkta alüminyum plakaların mikro yapısı incelenmiştir.Sonuçlar, sırasıyla 45 dakika ve 55 dakika boyunca 280 ℃'de tavlamadan sonra, % 95 deformasyona sahip haddelenmiş alüminyum levhanın iyi tane boyutuna sahip eş eksenli yapıyı elde edebileceğini ve ortalama tane çapının sırasıyla 62.4 μm ve 128,4 μm olduğunu göstermektedir. .Son geçişin yuvarlanma deformasyonu, ürünün tane boyutu üzerinde belirleyici bir etkiye sahiptir.Deformasyon ne kadar büyükse, tane o kadar küçüktür.
Malzeme dünyası, 4N'den 7N'ye kadar yüksek saflıkta malzemeler sağlar: yarı iletken endüstrisinin ve elektronik endüstrisinin temel malzemeleri olarak, yüksek saflıkta malzemeler, alan ışıldayan kapaklar, termoelektronik, elektronik, bilgi, kızılötesi, güneş pilleri dahil olmak üzere çeşitli endüstriyel alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır. , yüksek performanslı alaşımlar, vb. Jinxing matech, yerel ve uluslararası müşterilerin ihtiyaçlarını karşılamak için eksiksiz bir ultra yüksek saflıkta malzeme yelpazesi sunar.Biz sadece yüksek saflıkta hammadde sağlamakla kalmıyoruz, aynı zamanda ultra yüksek saflıkta metal magnetron püskürtme hedefi, güneş pili magnetron püskürtme hedefi, güneş filmi buharlaşma kaplama malzemesi, elektronik yüksek saflık gibi müşteriler için çeşitli yüksek saflıkta hammaddeler üretebiliyoruz. filmaşin, şerit, toz...
Alüminyum Levha Püskürtme Hedefi %99,999,AlüminyumDüzlemsel Püskürtme Hedefi %99,999
değişen boyutlarda mevcuttur
Yüksek saflıkta alüminyum hedef, yarı iletken cihaz imalat endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır.Hedefin hazırlanması, yalnızca yüksek saflıkta alüminyumun saflığını değil, aynı zamanda yüksek oranda (001) oryantasyonunun yanı sıra ince ve düzgün tane yapısını da gerektirir.Farklı haddeleme ve tavlama işlemleri altında yüksek saflıkta alüminyumun mikro yapısının ve dokusunun evrimi ve yeniden kristalleşme davranışının yüksek saflıkta alüminyum hedefin mikro yapısı üzerindeki etkisi
Süper iletkenlik alanında, süper iletken kablonun stabilize edici malzemesi olarak ultra yüksek saflıkta alüminyum kullanılır.
Elektronik alanında, 5N ultra saf alüminyum püskürtme filminin bulunduğu CD, CD-ROM, CD-RW, veri diski veya mikro disk, DVD gümüş disk vb. gibi optoelektronik depolama ortamlarını üretmek için 5N ultra saf alüminyum kullanılır. ışığı yansıtan katman olarak kullanılır.
| Notlar: |
Alüminyum Püskürtme hedefi |
| |
Saflık: %99,99, %99,9999 |
| Alüminyum |
Yüksek saflıkta Alüminyum Püskürtme hedefi |
| Yoğunluk: |
7.19g/cm3 |
| Şekil: |
Yuvarlak Şekil, Tüp Şekli ve Plaka Şekli. |
Boyutlar:
Plaka püskürtme hedefleri:
Kalınlık: 0,04 ila 1,40" (1,0 ila 35 mm).
20 "(50 ila 500 mm) kadar genişlik.
Uzunluk: 3,9" ila 6,56 fit (100-2000 mm)
diğer boyutlar istendiği gibi.
Silindir püskürtme hedefleri:
3.94 Çapx 1.58"(100 Çap x 40mm)
2.56 Çap.x 1,58" (65 Çap x 40mm)
veya istendiği gibi 63*32mm diğer boyutlar.
Tüp püskürtme hedefleri:
2,76 DÇ x 0,28 WT x 39,4”U (70 DÇ x 7 WT x 1000mm U)
3,46 DÇ x 0,39 WT x 48,4”U (88 DÇ x 10 WT x 1230mm U)
diğer boyutlar istendiği gibi.
Mesajınız 20-3.000 karakter arasında olmalıdır!