Titanyum Sputter Hedef Yüksek Saflıkta İnce Tane Boyutu 4.52 G/Cm3

Yüksek saflıkta Titanyum Püskürtme Hedefi %99,99, %99,999

Yüksek saflıkta malzeme, ultra yüksek saflıkta malzeme, yarı iletken yüksek saflıkta malzeme

Malzeme dünyası, 4N'den 7N'ye kadar yüksek saflıkta malzemeler sağlar: yarı iletken endüstrisinin ve elektronik endüstrisinin temel malzemeleri olarak, yüksek saflıkta malzemeler, alan ışıldayan kapaklar, termoelektronik, elektronik, bilgi, kızılötesi, güneş pilleri dahil olmak üzere çeşitli endüstriyel alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır. , yüksek performanslı alaşımlar, vb. Jinxing matech, yerel ve uluslararası müşterilerin ihtiyaçlarını karşılamak için eksiksiz bir ultra yüksek saflıkta malzeme yelpazesi sunar.Biz sadece yüksek saflıkta hammadde sağlamakla kalmıyoruz, aynı zamanda ultra yüksek saflıkta metal magnetron püskürtme hedefi, güneş pili magnetron püskürtme hedefi, güneş filmi buharlaşma kaplama malzemesi, elektronik yüksek saflık gibi müşteriler için çeşitli yüksek saflıkta hammaddeler üretebiliyoruz. filmaşin, şerit, toz...

Magnetron püskürtme hedef malzeme şekillendirme yöntemi: malzeme şekillendirme yöntemi, ürün performansına ve müşterilerin farklı gereksinimlerine göre seçilir.Genel olarak, malzemelerin erime noktası düşük olduğunda, gözenekliliği ortadan kaldırmak için vakumlu eritme, döküm, dövme ve haddeleme kullanmak gerekir.Tabii ki, tek tip tanecik malzemesini rafine etmek için etkili ısıl işlem gereklidir.Erime noktası yüksek (veya kırılganlığı yüksek malzemeler) malzemeler, sıcak presleme veya sıcak izostatik presleme ile oluşturulur ve bazıları soğuk izostatik presleme ile oluşturulur ve ardından sinterlenir.Firmamız tarafından sağlanan her türlü püskürtme hedef malzemeleri uygun teknolojiye, yüksek yoğunluğa, üniform tane ve uzun servis ömrüne sahiptir...