Bir teklif isteği
Turkish
Ana sayfa ÜrünlerPüskürtme HedefleriTi33al67 % 2n8 Püskürtme Hedefleri Alüminyum Titanyum Özel Yapılmış Şekil
Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape
Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape
Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape Ti33al67 At% 2n8 Sputtering Targets Aluminum Titanium Custom Made Shape

Ti33al67 % 2n8 Püskürtme Hedefleri Alüminyum Titanyum Özel Yapılmış Şekil

Ürün ayrıntıları:
Menşe yeri: Çin
Marka adı: JINXING
Sertifika: ISO 9001
Model numarası: Alüminyum Titanyum Püskürtme Hedefi
Ödeme & teslimat koşulları:
Min sipariş miktarı: 1kg
Fiyat: 20～150USD/kg
Ambalaj bilgileri: KONTRPLAKLAR HARF
Teslim süresi: 10 ～ 25 iş günü
Ödeme koşulları: L / C, D / A, D / P, T / T, Western Union
Yetenek temini: 100000kgs / E
Şimdi başvurun

Detay Bilgi
Malzeme: Alüminyum Titanyum alaşımı (AlTi) İşlem: CIP, HIP Presleme
Boyut: özelleştirilmiş Başvuru: PVD Kaplama sistemi
Şekil: Yuvarlak , Plaka, Tüp Tane büyüklüğü: İnce Tane Boyutu, İyi yoğunluk
Vurgulamak:

Alüminyum Titanyum Püskürtme Hedefleri

,

Özelleştirilmiş HIP Pres Püskürtme Hedefleri

,

Püskürtme Hedefleri PVD Kaplama sistemi

Ürün Açıklaması

Alüminyum Titanyum Püskürtme Hedefi (AlTi) alaşımı 67:33 / 70:30

Son yıllarda püskürtmeli kaplama teknolojisinin gelişmesinden sonra, çeşitli malzemeler için kaplama teknolojisi çok mükemmel olmuştur.Jinxing şirketi, kolejlere ve üniversitelere, bilimsel araştırma kurumlarına, endüstriyel ve madencilik işletmelerine çok çeşitli püskürtme kaplama hedefleri (metal hedefler, alaşım ve ara alaşım hedefleri, seramik hedefler dahil) sağlar.


Magnetron püskürtme hedef malzeme şekillendirme yöntemi: malzeme şekillendirme yöntemi, ürün performansına ve müşterilerin farklı gereksinimlerine göre seçilir.Genel olarak, malzemelerin erime noktası düşük olduğunda, gözenekliliği ortadan kaldırmak için vakumlu eritme, döküm, dövme ve haddeleme kullanmak gerekir.Tabii ki, tek tip tanecik malzemesini rafine etmek için etkili ısıl işlem gereklidir.Erime noktası yüksek (veya kırılganlığı yüksek malzemeler) malzemeler, sıcak presleme veya sıcak izostatik presleme ile oluşturulur ve bazıları soğuk izostatik presleme ile oluşturulur ve ardından sinterlenir.Firmamız tarafından sağlanan her türlü püskürtme hedef malzemeleri uygun teknolojiye, yüksek yoğunluğa, üniform tane ve uzun servis ömrüne sahiptir...

Alüminyum Titanyum Püskürtme Hedefi, Alüminyum Titanyum Alaşımlı Püskürtme Hedefi, çeşitli boyutlarda mevcuttur

 

Vakum püskürtme hedefleri ve optik kaplama malzemeleri, dekoratif kaplamalar, alet kaplamaları, optik kaplamalar ve kaplamalı cam ve düz panel ekran endüstrilerinde yaygın olarak kullanılmaktadır.Üretilen püskürtme hedefi, makul kompozisyon tasarımına, pürüzsüz ve pürüzsüz bir yüzeye ve iyi elektrik iletkenliğine sahiptir.Püskürtme sırasında çalışma akımı sabittir ve yüksek dirençli hedefin alt plakası sıkıca uygulanır., İyi stabilite, iyi ısı direnci, aşınma direnci ve oksidasyon direnci, küçük sıcaklık direnci katsayısı ve diğer özellikler.

 

Uygulamalar:optik, elektronik, optoelektronik, dekorasyon, güneş enerjisi... Jinxing şirketi tarafından sağlanan kaplama malzemesi yüksek saflık, iyi yoğunluk ve parlama noktası olmaması gibi avantajlara sahiptir.

 

  Yoğunluk (g/cm3) Gerçek yoğunluk (g/cm3) Kompaktlık yoğunluğu%
Ti33Al67at% 2N8 3.322 3.31 >%99

 

Diğer kompozisyon:%50:50 %80:20at% 70:30at% 40:60at% 33:67at%

 

Başlıca ürünler şunlardır:

 

Yüksek saflıkta alüminyum Al, yüksek saflıkta bakır Cu, yüksek saflıkta titanyum Ti, yüksek saflıkta silikon Si, yüksek saflıkta altın Au, yüksek saflıkta gümüş AG, yüksek saflıkta indiyum, yüksek saflıkta magnezyum mg, yüksek saflıkta çinko Zn, yüksek saflıkta platin Pt, yüksek saflıkta germanyum Ge, yüksek saflıkta nikel Ni, Yüksek saflıkta tantal TA, altın germanyum alaşımı Auge, altın nikel alaşımı auni, nikel krom alaşımı NiCr, titanyum alüminyum alaşımı TiAl, bakır indiyum galyum alaşımı cuinga, bakır indiyum galyum selenyum alaşımı CuInGaSe, çinko alüminyum alaşımlı ZnAl, alüminyum silikon alaşımlı AlSi ve diğer metal kaplama malzemeleri.

 


Hedef malzemeler, malzeme özelliklerine göre hazırlanır: sıcak presleme sinterleme işlemi ve vakum eritme döküm işlemi.Ürünler yüksek saflık, mükemmel mikro yapı ve yüksek kullanım oranı özelliklerine sahiptir.

Ti33al67 % 2n8 Püskürtme Hedefleri Alüminyum Titanyum Özel Yapılmış Şekil 0

Etiket:

tungsten püskürtme hedefleri

metal püskürtme hedefleri

titanyum püskürtme hedefi

Bizimle temasa geçin

Mesajınız Girin

Bunların İçinde Olabilirsiniz